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更新時(shí)間：2024-09-05 
瀏覽次數(shù)：463深度剖析紫外線(xiàn)臭氧清洗機(jī)裝置
一、概述
該裝置是一種UV臭氧清洗機(jī)，可以對(duì)各種半導(dǎo)體工藝進(jìn)行干燥處理?？梢赃M(jìn)行有機(jī)物去除和表面改性，例如光刻膠灰化以及硅和藍(lán)寶石晶圓清洗。配備紫外線(xiàn)燈、臭氧發(fā)生器和加熱臺(tái)，紫外線(xiàn)照射、臭氧和熱量之間的相互作用可以實(shí)現(xiàn)高效的清潔和表面改性，而不會(huì)對(duì)基材造成電氣損壞。
二、特征
1.由于同時(shí)使用紫外線(xiàn) (UV)、高濃度臭氧 (O?) 和載物臺(tái)加熱器的熱量，因此可以實(shí)現(xiàn)高效清潔。
2.離子或電子不會(huì)對(duì)元件造成損壞。
3.由于配備了使用非貴金屬催化劑的臭氧分解器，因此不需要臭氧處理設(shè)備。
4.由于大氣壓處理，不需要真空系統(tǒng)。
5.一鍵即可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)操作。
三、應(yīng)用實(shí)例
1.光刻膠灰化、圓盤(pán)
2.親水處理
3.硅、化合物半導(dǎo)體、晶體、ITO薄膜、透鏡等的清洗。
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